Study by X-ray photoelectron spectroscopy and X-ray diffraction of the growth of TiN thin films obtained by nitridation of Ti layers

Santucci, Sandro; Lozzi, L; Passacantando, M; Picozzi, P; Alfonsetti, R; Diamanti, R; Moccia, G.

doi:10.1016/S0040-6090(96)09126-2

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Study by X-ray photoelectron spectroscopy and X-ray diffraction of the growth of TiN thin films obtained by nitridation of Ti layers / Santucci S; Lozzi L; Passacantando M; Picozzi P; Alfonsetti R; Diamanti R; Moccia G. - In: THIN SOLID FILMS. - ISSN 0040-6090. - 290(1996), pp. 376-380.

Titolo:	Study by X-ray photoelectron spectroscopy and X-ray diffraction of the growth of TiN thin films obtained by nitridation of Ti layers
Autori:	SANTUCCI, Sandro Lozzi L Passacantando M Picozzi P Alfonsetti R Diamanti R Moccia G. mostra contributor esterni nascondi contributor esterni
Data di pubblicazione:	1996
Rivista:	THIN SOLID FILMS
Handle:	http://hdl.handle.net/11697/10341
Appare nelle tipologie:	1.1 Articolo in rivista

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