Study by X-ray photoelectron spectroscopy and X-ray diffraction of the growth of TiN thin films obtained by nitridation of Ti layers / Santucci S; Lozzi L; Passacantando M; Picozzi P; Alfonsetti R; Diamanti R; Moccia G. - In: THIN SOLID FILMS. - ISSN 0040-6090. - 290(1996), pp. 376-380.
Titolo: | Study by X-ray photoelectron spectroscopy and X-ray diffraction of the growth of TiN thin films obtained by nitridation of Ti layers |
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 1996 |
Rivista: | |
Handle: | http://hdl.handle.net/11697/10341 |
Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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