Compositional characterization of very thin SiO2/Si3N4/SiO2 stacked films by XPS using the ''Auger parameter method'' / Santucci S; Lozzi L; Passacantando M; Picozzi P; Alfonsetti R; Fama F; Moccia G. - In: MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIA PROCEEDINGS. - ISSN 0272-9172. - 382(1995), pp. 437-442.
Titolo: | Compositional characterization of very thin SiO2/Si3N4/SiO2 stacked films by XPS using the ''Auger parameter method'' |
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 1995 |
Rivista: | |
Handle: | http://hdl.handle.net/11697/11150 |
Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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