Oxygen Loss and Recovering Induced by Ultra High Vacuum and Oxygen Annealing on WO3 Thin Film Surfaces: Influences on the Gas Response Properties

Santucci, S.; Maccallini, E.; Lozzi, L.; Passacantando, M.; Cantalini, C.; Ottaviano, L

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Oxygen Loss and Recovering Induced by Ultra High Vacuum and Oxygen Annealing on WO3 Thin Film Surfaces: Influences on the Gas Response Properties / S. SANTUCCI; E. MACCALLINI; L. LOZZI; M. PASSACANTANDO; C. CANTALINI; OTTAVIANO L. - In: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. A, AN INTERNATIONAL JOURNAL DEVOTED TO VACUUM, SURFACES, AND FILMS. - A19(2001), pp. 1467-1467.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: http://hdl.handle.net/11697/14816

Titolo:	Oxygen Loss and Recovering Induced by Ultra High Vacuum and Oxygen Annealing on WO3 Thin Film Surfaces: Influences on the Gas Response Properties
Autori interni:	OTTAVIANO, LUCA CANTALINI, Carlo LOZZI, Luca PASSACANTANDO, MAURIZIO SANTUCCI, Sandro
Data di pubblicazione:	2001
Rivista:	JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. A, AN INTERNATIONAL JOURNAL DEVOTED TO VACUUM, SURFACES, AND FILMS
Handle:	http://hdl.handle.net/11697/14816
Appare nelle tipologie:	1.1 Articolo in rivista

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