Oxygen Loss and Recovering Induced by Ultra High Vacuum and Oxygen Annealing on WO3 Thin Film Surfaces: Influences on the Gas Response Properties / Santucci, Sandro; E., Maccallini; Lozzi, Luca; Passacantando, Maurizio; Cantalini, Carlo; Ottaviano, Luca. - In: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. A, AN INTERNATIONAL JOURNAL DEVOTED TO VACUUM, SURFACES, AND FILMS. - ISSN 1553-1813. - A19(2001), pp. 1467-1467.
Titolo: | Oxygen Loss and Recovering Induced by Ultra High Vacuum and Oxygen Annealing on WO3 Thin Film Surfaces: Influences on the Gas Response Properties |
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 2001 |
Rivista: | |
Handle: | http://hdl.handle.net/11697/14816 |
Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.