Compositional characterization of very thin SiO2/Si3N4/SiO2 stacked films by XPS and TOF-SIMS techniques / S. SANTUCCI; L. LOZZI; OTTAVIANO L; M. PASSACANTANDO; P. PICOZZI; G. MOCCIA; R. ALFONSETTI; A. DI GIACOMO; AND P.FIORANI. - In: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY. A. VACUUM, SURFACES, AND FILMS. - ISSN 0734-2101. - 15:3(1997), pp. 905-910.
Titolo: | Compositional characterization of very thin SiO2/Si3N4/SiO2 stacked films by XPS and TOF-SIMS techniques |
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 1997 |
Rivista: | |
Handle: | http://hdl.handle.net/11697/1630 |
Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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