Un laser à excimères de grand volume, HERCULES-L, a été développé dans le cadre d'un programme européen pour des applications industrielles concernant le traitement de surface du silicium et la génération de plasmas par laser. Les performances de ce laser sont particulièrement adaptées pour le traitement de grandes surfaces et pour la création de photons EUV (hv ~ 100 eV) par plasma assisté par laser.
Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L : Du recuit du silicium à la lithographie par rayons X
PALLADINO, Libero
2001-01-01
Abstract
Un laser à excimères de grand volume, HERCULES-L, a été développé dans le cadre d'un programme européen pour des applications industrielles concernant le traitement de surface du silicium et la génération de plasmas par laser. Les performances de ce laser sont particulièrement adaptées pour le traitement de grandes surfaces et pour la création de photons EUV (hv ~ 100 eV) par plasma assisté par laser.File in questo prodotto:
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