CINECA IRIS Institutional Research Information System
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EnglishLarge area interference lithography using a table-top extreme ultraviolet laser: a systematic study of the degree of mutual coherence / Zuppella P; Luciani D; Tucceri P; De Marco P; Gaudieri A; Kaiser J; Ottaviano L; Santucci S; Reale A. - In: NANOTECHNOLOGY. - ISSN 0957-4484. - 20:11(2009).
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http://hdl.handle.net/11697/6456| Titolo: | Large area interference lithography using a table-top extreme ultraviolet laser: a systematic study of the degree of mutual coherence |
| Autori: | |
| Data di pubblicazione: | 2009 |
| Rivista: | |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11697/6456 |
| Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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