Large area interference lithography using a table-top extreme ultraviolet laser: a systematic study of the degree of mutual coherence

Zuppella, P; Luciani, D; Tucceri, P; De Marco, P; Gaudieri, A; Kaiser, J; Ottaviano, L; Santucci, S; Reale, A

doi:10.1088/0957-4484/20/11/115303

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Large area interference lithography using a table-top extreme ultraviolet laser: a systematic study of the degree of mutual coherence / Zuppella P; Luciani D; Tucceri P; De Marco P; Gaudieri A; Kaiser J; Ottaviano L; Santucci S; Reale A. - In: NANOTECHNOLOGY. - ISSN 0957-4484. - 20:11(2009).

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: http://hdl.handle.net/11697/6456

Titolo:	Large area interference lithography using a table-top extreme ultraviolet laser: a systematic study of the degree of mutual coherence
Autori interni:	OTTAVIANO, LUCA SANTUCCI, Sandro
Data di pubblicazione:	2009
Rivista:	NANOTECHNOLOGY
Handle:	http://hdl.handle.net/11697/6456
Appare nelle tipologie:	1.1 Articolo in rivista

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