Influence of Si substrate preparation on surface chemistry and morphology of L-CVD SnO(2) thin films studied by XPS and AFM
OTTAVIANO, LUCA;SANTUCCI, Sandro;
2010-01-01
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
Pubblicazioni consigliate
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.