Use of Neural Networks in Modeling relations between Exposure Energy and pattern Dimension in Photolithography / Cardarelli, G; Palumbo, M; Pelagagge, P.. - In: IEEE TRANSACTIONS ON COMPONENTS, PACKAGING AND MANUFACTURING TECHNOLOGY. PART C. MANUFACTURING. - ISSN 1083-4400. - 19, n° 4(1996), pp. 290-299.
Titolo: | Use of Neural Networks in Modeling relations between Exposure Energy and pattern Dimension in Photolithography |
Autori: | |
Data di pubblicazione: | 1996 |
Rivista: | |
Handle: | http://hdl.handle.net/11697/9408 |
Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.