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EnglishUse of Neural Networks in Modeling relations between Exposure Energy and pattern Dimension in Photolithography / Cardarelli, G; Palumbo, M; Pelagagge, P.. - In: IEEE TRANSACTIONS ON COMPONENTS, PACKAGING AND MANUFACTURING TECHNOLOGY. PART C. MANUFACTURING. - ISSN 1083-4400. - 19, n° 4(1996), pp. 290-299.
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http://hdl.handle.net/11697/9408| Titolo: | Use of Neural Networks in Modeling relations between Exposure Energy and pattern Dimension in Photolithography |
| Autori interni: | PALUMBO, MARIO PELAGAGGE, Pacifico |
| Data di pubblicazione: | 1996 |
| Rivista: | IEEE TRANSACTIONS ON COMPONENTS, PACKAGING AND MANUFACTURING TECHNOLOGY. PART C. MANUFACTURING |
| Handle: | http://hdl.handle.net/11697/9408 |
| Appare nelle tipologie: | 1.1 Articolo in rivista |
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